金(jin)(jin)(jin)相(xiang)(xiang)試樣拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)機(ji)適用(yong)于對(dui)磨光(guang)(guang)(guang)(guang)后的(de)金(jin)(jin)(jin)屬材料(liao)進行拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)，可(ke)獲得光(guang)(guang)(guang)(guang)亮如鏡的(de)金(jin)(jin)(jin)屬表(biao)面，供(gong)在顯微(wei)鏡下觀(guan)察(cha)與(yu)測(ce)定金(jin)(jin)(jin)相(xiang)(xiang)組織。金(jin)(jin)(jin)相(xiang)(xiang)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)機(ji)關于金(jin)(jin)(jin)相(xiang)(xiang)試樣拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)的(de)技術要求(qiu)是(shi)什么?

拋(pao)(pao)光(guang)(guang)操(cao)作(zuo)的(de)(de)關鍵是要設法得到比較(jiao)大的(de)(de)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)速率，以(yi)(yi)便盡快除去(qu)磨(mo)光(guang)(guang)時產生(sheng)的(de)(de)損(sun)傷(shang)(shang)層。同(tong)時也要使(shi)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)損(sun)傷(shang)(shang)層不會影(ying)響比較(jiao)終觀察到的(de)(de)組(zu)織，即不會造成(cheng)假組(zu)織。這兩(liang)個要求(qiu)(qiu)是矛(mao)盾的(de)(de)。前者要求(qiu)(qiu)使(shi)用較(jiao)粗的(de)(de)磨(mo)料(liao)，以(yi)(yi)保證有較(jiao)大的(de)(de)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)速率來去(qu)除磨(mo)光(guang)(guang)的(de)(de)損(sun)傷(shang)(shang)層，但拋(pao)(pao)光(guang)(guang)損(sun)傷(shang)(shang)層也較(jiao)深;后者要求(qiu)(qiu)使(shi)用比較(jiao)細(xi)的(de)(de)材料(liao)，使(shi)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)損(sun)傷(shang)(shang)層較(jiao)淺，但拋(pao)(pao)光(guang)(guang)速率低。

解決這個(ge)矛盾的(de)理想的(de)辦法就(jiu)是(shi)把拋光分為(wei)兩個(ge)階段進(jin)行(xing)。

首先是粗(cu)拋(pao)(pao)，目(mu)的(de)(de)是去除磨光損(sun)(sun)傷(shang)層，這一階段應具(ju)有比(bi)較大(da)的(de)(de)拋(pao)(pao)光速率(lv)，粗(cu)拋(pao)(pao)形成的(de)(de)表層損(sun)(sun)傷(shang)是次要的(de)(de)考慮(lv)，不過也應當(dang)盡可能(neng)小;其(qi)次是精拋(pao)(pao)(或(huo)稱終拋(pao)(pao))，其(qi)目(mu)的(de)(de)是去除粗(cu)拋(pao)(pao)產生的(de)(de)表層損(sun)(sun)傷(shang)，使拋(pao)(pao)光損(sun)(sun)傷(shang)減到比(bi)較小。 拋(pao)(pao)光時，試(shi)樣磨面與拋(pao)(pao)光盤(pan)應絕對平行并均勻地輕(qing)壓在(zai)拋(pao)(pao)光盤(pan)上，注意(yi)防止試(shi)樣飛出和因壓力太大(da)而(er)產生新磨痕。

同時還應使試樣(yang)自(zi)轉并沿(yan)轉盤半徑方向來回移動，以(yi)避免拋(pao)光織(zhi)物局(ju)部磨損太快在拋(pao)光過程中要不(bu)斷(duan)添(tian)加微粉懸(xuan)浮液，使拋(pao)光織(zhi)物保(bao)持一定濕(shi)度。

濕(shi)度太大會(hui)減弱拋(pao)光(guang)的磨痕作(zuo)用，使試(shi)樣中(zhong)硬(ying)相呈現(xian)浮(fu)凸(tu)和鋼中(zhong)非金(jin)屬(shu)夾雜(za)物(wu)及鑄鐵(tie)中(zhong)石墨相產(chan)生“曳尾”現(xian)象;濕(shi)度太小時，由于(yu)摩擦生熱(re)會(hui)使試(shi)樣升溫，潤滑作(zuo)用減小，磨面(mian)(mian)失(shi)去光(guang)澤，甚(shen)至出現(xian)黑斑，輕合(he)金(jin)則會(hui)拋(pao)傷表面(mian)(mian)。

為(wei)了達到(dao)粗拋(pao)的(de)目(mu)的(de)，要(yao)求轉盤轉速較(jiao)低，比較(jiao)好(hao)不要(yao)超(chao)過(guo)500r/min;拋(pao)光(guang)(guang)時間(jian)(jian)應當比去掉(diao)劃痕(hen)所需的(de)時間(jian)(jian)長些，因為(wei)還要(yao)去掉(diao)變(bian)形層。粗拋(pao)后(hou)磨面光(guang)(guang)滑，但黯淡無光(guang)(guang)，在(zai)顯微鏡下(xia)觀察有(you)均勻細致的(de)磨痕(hen)，有(you)待(dai)精(jing)拋(pao)消除(chu)。

精(jing)拋(pao)時轉盤速(su)度(du)可(ke)適當(dang)提高，拋(pao)光時間以拋(pao)掉(diao)粗拋(pao)的(de)(de)(de)損傷層(ceng)為宜。精(jing)拋(pao)后(hou)磨面明(ming)亮如鏡，在顯微(wei)鏡明(ming)視場條(tiao)件下看不(bu)到劃(hua)痕(hen)(hen)，但在相襯照(zhao)明(ming)條(tiao)件下則仍(reng)可(ke)見到磨痕(hen)(hen)。金相試(shi)(shi)樣拋(pao)光質量(liang)的(de)(de)(de)好壞嚴重(zhong)影響試(shi)(shi)樣的(de)(de)(de)組織結構(gou)，已逐步引起有關專家的(de)(de)(de)重(zhong)視。

以(yi)上就是金相(xiang)試(shi)樣(yang)(yang)拋光(guang)機對于金相(xiang)試(shi)樣(yang)(yang)拋光(guang)的(de)技術要(yao)求的(de)相(xiang)關內容分(fen)享，希(xi)望小編的(de)分(fen)享能為您(nin)提供幫助(zhu)，如有更多需要(yao)了解的(de)，歡迎咨詢濟南中創。